30% 빠른 스캔 속도로 포토레지스트와 상호작용 축소하고 처리량 높여 어플라이드 머티어리얼즈가 새로운 전자빔 계측 시스템 ‘베리티SEM 10’을 발표했다. 베리티SEM 10은 EUV(극자외선) 및 새롭게 부상하는 High-NA EUV 리소그래피 공정으로 패터닝된 반도체 디바이스 소자의 패턴 거리측정을 정밀하게 측정하도록 설계됐다. 반도체 제조사들은 리소그래피 스캐너가 마스크에서 포토레지스트로 패턴을 형성하면 CD-SEM을 사용해 이를 서브 나노미터 단위로 측정한다. 이 같은 계측은 리소그래피 공정 성능을 해당 스텝에서 지속적으로 보정함으로써 패턴이 웨이퍼로 식각되기 전 이에 대한 정확성을 보장해준다. 식각 후에도 설계 패턴과 웨이퍼 상 결과를 비교하기 위해 CD-SEM이 사용된다. 이런 방식으로 CD-SEM은 식각 공정 제어를 지원하고, 리소그래피와 식각 사이의 피드백 루프를 활성화함으로써 전체적인 공정 조율을 위한 상호 연관성 높은 데이터 세트를 엔지니어에게 제공한다. 반도체 디바이스 소자의 패턴 거리측정은 EUV, 특히 High-NA EUV 공정에서 포토레지스트 두께가 얇아지면서 점점 어려워지고 있다. 서브 나노미터의 정확한 계측을 제공하는 고분해능 이미
[헬로티] 한국에너지공단은 스마트그린산업단지의 중소·중견사업장을 위한 ‘2021년 스마트에너지산단 FEMS 보급 지원사업’을 공고한다고 밝혔다. ▲게티이미지뱅크 이번 사업은 스마트그린산업단지에 입주한 중소·중견사업장 대상으로 공장에너지관리시스템(FEMS) 구축 및 컨설팅을 지원해 스마트그린산단 구축 및 에너지효율화 기반을 마련하기 위함이다. 지원대상은 스마트그린산단에 입주한 산업·발전부문 중소·중견 사업장이다. 지원 예산은 11.9억 원이며 사업장 규모 및 연간 에너지사용량별 차등지원한다. 중소기업은 총투자비의 70~80%, 중견기업은 40% 이내로 지원한다. ▲출처 : 한국에너지공단 사업 내용은 ▲에너지관리시스템 구축 컨설팅 ▲계측시스템 구축 ▲제어시스템 구축 ▲에너지관리시스템 구축으로 진행된다. 사업 신청은 4월 1일부터 30일까지이며 e나라도움 홈페이지를 통해 신청할 수 있다. 자세한 사업계획서 및 첨부서류 양식은 e나라도움 또는 한국에너지공단 홈페이지에서 확인할 수 있다.
KLA-Tencor Corporation은 Archer™ 500LCM과 SpectraFilm™ LD10이라는 첨단 계측 시스템 2종을 출시했다. 이들 제품은 16nm 이하급 IC의 개발과 생산을 지원한다. Archer 500LCM 오버레이 계측 시스템은 생산 과정의 전 단계에 걸쳐 정확한 오버레이 오류 피드백을 제공함으로써 칩메이커가 다중 패터닝, 스페이서 피치 스플리팅 등의 혁신적인 패터닝 기법을 적용할 때 발생하는 오버레이 문제를 해결하는 데 도움을 준다. SpectraFilm LD10 필름 계측 시스템은 높은 신뢰성과 정밀한 필름 두께 및 스트레스 계측을 통해 FinFET, 3D NAND 등 다양한 첨단 디바이스의 제조에 사용되는 필름 및 필름 스택의 검증과 모니터링을 지원한다. 이들 신제품은 KLA-Tencor의 고유한 5D™ 패터닝 제어 솔루션을 구성하는 핵심 제품이다. 5D 패터닝 제어 솔루션은 전체 공정을 특성화하고 모니터링하여 최적의 패터닝 결과를 이끌어내는 솔루션이다. KLA-Tencor의 Parametric Solutions Group 부사장인 아흐마드 칸(Ahmad Khan)은 "비파괴 광학 계측 업계를 대
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