ACM 리서치는 반도체 제조 전공정 분야를 지원하기 위해 설계된 자사 최초의 Ultra Lith KrF 트랙 시스템을 출시하고, 중국 로직 웨이퍼 팹 고객사에 첫 장비를 출고했다고 밝혔다.
이 시스템은 ACM의 리소그래피 제품 라인을 확장하는 장비로 높은 생산성, 첨단 열 제어, 실시간 공정 제어 및 모니터링 기능을 제공한다. Ultra Lith KrF 트랙은 ACM ArF 트랙 플랫폼의 검증된 아키텍처와 공정 성과를 기반으로 개발됐다. ArF 플랫폼은 2024년 말 중국 주요 고객사와의 데모 라인 검증에서 옹스트롬 이하 수준의 코팅 균일도, 첨단 열 제어, ASML 스캐너와 부합하는 CD 매칭 성능을 입증한 바 있으며, 이는 KrF 설계 최적화의 토대가 됐다.
데이비드 왕 ACM 리서치 CEO는 “KrF 리소그래피는 성숙 공정 노드 디바이스 제조에 여전히 필수적이며, 그 수요는 전 세계 반도체 생산에서 점점 커지고 있다”며 “ArF와 KrF 트랙을 동시에 제공함으로써 팹 내 원활한 통합과 더 높은 제조 유연성을 지원한다”고 말했다.
새로운 Ultra Lith KrF 트랙 시스템은 12대의 스핀 코터와 12대의 디벨로퍼(12C12D)로 구성된 공정 모듈과 54개의 핫플레이트(저·중·고온 공정 지원)를 갖췄다. 이를 통해 업계 최고 수준의 열 균일성을 제공하며 시간당 300장 이상의 웨이퍼(WPH) 처리 성능을 달성한다. 또한 ACM의 고유 기술인 후면 파티클 제거 장치(BPRV)를 통합해 교차 오염 위험을 줄였고, 웨이퍼 단위 이상치 검사(WSOI) 유닛을 통해 공정 변동 감지 및 수율 모니터링을 강화했다.
헬로티 이창현 기자 |
