EUV 노광 장비의 레티클을 보관하는 전용 POD 세정해 에스티아이가 글로벌 반도체 업체로부터 EUV POD CLEANER 장비를 수주했다고 밝혔다. 에스티아이가 수주한 EUV POD CLEANER 장비는 EUV 노광 장비의 레티클(RETICLE)을 보관하는 전용 POD를 세정하는 장비로서, 순수 자체 기술 개발을 통해 품질과 생산성을 혁신적으로 향상시켜 국산화에 성공했다. 에스티아이는 EUV POD에 최적화된 전용 세정 장비를 구현하기 위해 자체 특허 기술을 적용해 장비 성능을 검증 받았으며, 이 기술을 기반으로 타사 대비 경쟁력 있는 양산성을 확보하는 것이 목표다. EUV 공정은 기존의 DUV(심자외선)보다 훨씬 짧은 파장의 빛을 사용해 웨이퍼에 세밀한 회로를 형성한다. 이를 통해 반도체 칩의 크기를 줄이고 집적도를 높여 전력 효율성과 성능을 획기적으로 향상시킨다. 특히 EUV 공정은 차세대 반도체 기술의 핵심으로, 고성능 모바일 기기, 데이터 센터, 인공지능 등 다양한 첨단 산업에서 요구되는 고효율, 고집적 반도체를 구현하는 데 필수적이다. 반도체 파운드리 및 메모리 공정에서 EUV 노광 장비의 수요가 지속적으로 확대되는 가운데, 이와 관련된 EUV 레
[첨단 헬로티] KLA-Tencor가 세계적인 인사조직컨설팅회사인 에이온휴잇(AON Hewitt)이 수여하는 ‘2017 한국 최고의 직장(2017 Best Employers in Korea)’ 본상을 수상했다. KLA-Tencor 코리아는 이번에 직원몰입도, 고용브랜드, 리더십, 고성과 문화 등 최고의 직장 선정을 위한 주요 조사 항목에서 높은 평가를 받아 ‘한국 최고의 직장 본상’ 수상 기업으로 선정됐다. ▲2017 한국 최고의 직장 수상 기념 사진(왼쪽부터 심사위원장 한양대학교 전상길 교수, KLA-Tencor 코리아 정용식 대표, AON Hewitt Korea 권오성 대표 KLA-Tencor는 매년 직원몰입도조사(Employee Engagement Survey)를 실시해 직원들의 의견을 묻고, 여기서 수렴된 직원들의 의견 중 개선이 필요한 부분 대해서는 회사의 주요 성과 측정 지수에 반영한다. 이밖에도 매 분기마다 CEO가 직접 글로벌 전직원 회의(Global All Hands meeting)를 통해 회사의 주요 실적과 내용을 전 세계 모든 직원에게 설명할 뿐만 아니라 각 지사에서도 사업부 단위의 실적과 전략적
[첨단 헬로티] KLA-Tencor가 칩 제조업체에서 7nm 미만급 로직 및 선도적 메모리 설계 노드에 다중 패터닝 기술 및 EUV 노광을 적용할 때 필요한 엄격한 공정관리를 달성하는 데 도움이 되는 패터닝 관리 시스템 5종을 출시했다고 밝혔다. IC 제조업계에서는 ATL™ Overlay 계측 시스템과 SpectraFilm™ F1 박막 계측 시스템이 finFET, DRAM, 3D NAND 및 여타 여러 가지 최신 디바이스를 제조하면서 거쳐야 하는 여러 가지 공정과 모니터링 과정에 필요한 기술들을 제공한다. ▲KLA-Tencor의 7nm 미만급 IC 제조용 패터닝 관리 시스템 5종 Teron™ 640e 레티클 검사 제품군과 LMS IPRO7 레티클 등록 계측 시스템을 이용하면, 마스크숍에서의 EUV 및 고급 광학 레티클 개발과 인증에도 도움이 된다. 5D Analyzer® X1 고급 데이터 분석 시스템은 개방형 아키텍처 접근 방식의 토대를 이루어 제조 맞춤 분석과 실시간 공정 관리 애플리케이션을 지원한다. 이러한 5가지의 신형 시스템은 KLA-Tencor의 다채로운 계측, 검사 및 데이터 분석 시스템 포트폴리오를 한층 확
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