페로브스카이트 양자점 발광소자의 삼원색 세계 최고 효율 달성 국내 연구진이 페로브스카이트 발광체를 이용해 고효율‧고화질 디스플레이를 구현했다. 구현된 디스플레이는 얇고 유연해 웨어러블 기기나 모바일, 사물인터넷(IoT) 등 분야에서 유용할 전망이다. UNIST 신소재공학과의 최문기 교수팀과 DGIST 에너지공학과의 양지웅 교수팀은 ‘페로브스카이트 양자점의 표면제어로 초고해상도 패터닝 기술’을 개발했다. 패터닝(patterning)은 박막을 반복적으로 식각하는 과정을 통해 반도체 칩 내에 집적회로를 구현하는 것을 말한다. 이 기술로 만든 페로브스카이트 발광소자는 삼원색(빨강, 초록, 파랑) 모두 세계 최고 효율을 달성했다. 공동 연구진은 새로운 공정으로 매우 얇은 ‘피부 부착형 페로브스카이트 발광 소자’도 제작해 다양한 변형에도 대응 가능한 웨어러블 디스플레이를 선보였다. 양지웅 DGIST 교수는 “페로브스카이트 표면에 간단한 방식으로 유기 반도체 층을 도입해 패터닝 과정에서 발생할 수 있는 화학적·물리적 결함을 억제했다”며 “이 기술로 형성된 페로브스카이트 발광층은 페로브스카이트 나노입자 간 간격이 줄고 정공수송층과의 계면 특성이 개선됐다”고 설명했다. 실제
기능성 금속 칼코게나이드 잉크 개발…Nature Communications 논문 발표 전자제품 등에 들어가는 작은 부품에는 수많은 회로 등이 그려진다. 이 작업을 패터닝(Patterning)이라고 하는데, 비싼 장비를 쓰는 복잡한 공정을 거쳐야 한다. 그런데 최근 사진을 뽑아내듯 간단하게 패터닝하는 기술이 나와 주목받고 있다. UNIST 손재성-이지석 교수팀은 빛을 받으면 굳는(광경화성) ‘금속 칼코게나이드 잉크’와 이를 활용한 광학인쇄공정을 개발했다. 금속 칼코게나이드는 발광 특성, 전기적 특성 등을 가져 다양한 소자에서 중추적인 역할을 할 수 있는 무기물인데, 이를 쉽게 패턴화할 수 있는 길이 열린 것이다. 연구진은 이 기술을 이용해 2차원(2D), 3차원(3D) 구조체와 ‘마이크로 열전 소자’ 제작도 성공해 기존 공정을 대체할 ‘무기물 소재의 패턴화 기술’로서 가능성을 입증했다. 기존 소재 패터닝은 빛으로 소재를 깎아내는 포토리소그래피(Photo-lithography)나 레이저 및 전자빔(e-beam)으로 회로를 새기는 기술이 활용됐다. 그런데 이런 공정은 비싸고 복잡하며 처리 시간도 길다. 여기에 대한 대안으로 빛을 이용해 소재를 쌓아올리는 ‘광학 3
최근 퀀텀닷은 차세대 핵심 디스플레이용 소재로 각광받고 있다. 이를 잉크젯 프린팅 기술을 이용해 패터닝(형태화)하려는 노력을 크게 하고 있지만, 양산성이나 해상도의 제한적 문제 그리고 공정 과정 중에 발생하는 커피링 현상으로 효율이 크게 떨어지는 이슈가 큰 문제로 지적되고 있다. 카이스트(KAIST) 기계공학과 김형수 교수팀이 디스플레이 소자의 핵심 물질인 퀀텀닷의 마름 자국을 패턴의 형태에 상관없이 원형부터 다각형까지 완벽하게 균일 패터닝 할 수 있는 기술을 구현했다고 지난 2일 밝혔다. 커피링 자국은 용매 방울이 고체 표면 위에서 마르면서 물방울 표면의 상대적 불균일 증발률 때문에 발생하게 된다. 김 교수는 커피링을 제어하는 연구를 수년간 해오면서 얻은 노하우를 바탕으로 최근 획기적으로 커피링을 소멸시키는 기술을 발표한 바 있다. 커피링 자국 이외에도 디스플레이의 해상도를 높이기 위해 다양한 모양의 패턴들이 제안되고 있으나, 일반적으로 다각형의 경우 커피링의 정도가 원형의 경우보다 더욱 심해지는 경향을 띤다. 이번 연구에서는 퀀텀닷 패턴의 기하학적 형태에 무관하게 커피링을 완전히 소멸시킬 수 있는 기술을 소개하고 있다. 연구팀은 퀀텀닷이 녹아 있는 용매의
[첨단 헬로티] KLA-Tencor가 세계적인 인사조직컨설팅회사인 에이온휴잇(AON Hewitt)이 수여하는 ‘2017 한국 최고의 직장(2017 Best Employers in Korea)’ 본상을 수상했다. KLA-Tencor 코리아는 이번에 직원몰입도, 고용브랜드, 리더십, 고성과 문화 등 최고의 직장 선정을 위한 주요 조사 항목에서 높은 평가를 받아 ‘한국 최고의 직장 본상’ 수상 기업으로 선정됐다. ▲2017 한국 최고의 직장 수상 기념 사진(왼쪽부터 심사위원장 한양대학교 전상길 교수, KLA-Tencor 코리아 정용식 대표, AON Hewitt Korea 권오성 대표 KLA-Tencor는 매년 직원몰입도조사(Employee Engagement Survey)를 실시해 직원들의 의견을 묻고, 여기서 수렴된 직원들의 의견 중 개선이 필요한 부분 대해서는 회사의 주요 성과 측정 지수에 반영한다. 이밖에도 매 분기마다 CEO가 직접 글로벌 전직원 회의(Global All Hands meeting)를 통해 회사의 주요 실적과 내용을 전 세계 모든 직원에게 설명할 뿐만 아니라 각 지사에서도 사업부 단위의 실적과 전략적
[첨단 헬로티] KLA-Tencor가 칩 제조업체에서 7nm 미만급 로직 및 선도적 메모리 설계 노드에 다중 패터닝 기술 및 EUV 노광을 적용할 때 필요한 엄격한 공정관리를 달성하는 데 도움이 되는 패터닝 관리 시스템 5종을 출시했다고 밝혔다. IC 제조업계에서는 ATL™ Overlay 계측 시스템과 SpectraFilm™ F1 박막 계측 시스템이 finFET, DRAM, 3D NAND 및 여타 여러 가지 최신 디바이스를 제조하면서 거쳐야 하는 여러 가지 공정과 모니터링 과정에 필요한 기술들을 제공한다. ▲KLA-Tencor의 7nm 미만급 IC 제조용 패터닝 관리 시스템 5종 Teron™ 640e 레티클 검사 제품군과 LMS IPRO7 레티클 등록 계측 시스템을 이용하면, 마스크숍에서의 EUV 및 고급 광학 레티클 개발과 인증에도 도움이 된다. 5D Analyzer® X1 고급 데이터 분석 시스템은 개방형 아키텍처 접근 방식의 토대를 이루어 제조 맞춤 분석과 실시간 공정 관리 애플리케이션을 지원한다. 이러한 5가지의 신형 시스템은 KLA-Tencor의 다채로운 계측, 검사 및 데이터 분석 시스템 포트폴리오를 한층 확
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