펠리클의 EUV 투과도, EUV 공정에서 초미세 반도체 수율에 지대한 영향 끼쳐 산업통상자원부 국가기술표준원은 15일 중소기업인 '이솔(E-SOL)'이 개발한 반도체 장비 기술이 국제표준으로 제안됐다고 밝혔다. 이솔은 반도체 극자외선(EUV) 공정에 쓰이는 마스크 계측·검사 장비, 마스크 보호 박막(펠리클)의 투과도 검사 장비 등을 제작·판매하는 기업이다. 이솔은 마스크를 보호하는 박막인 펠리클 투과도 검사 장비를 개발하고, 이 장비를 활용한 펠리클의 EUV 투과도 검사 방법을 신규국제 표준안으로 제안했다. 초미세 반도체를 만드는 EUV 공정은 EUV 광원이 미세회로가 그려진 마스크를 통해 웨이퍼에 회로를 새기는 방식이다. 펠리클은 마스크 위에 씌워 미세먼지 등 오염 물질로부터 마스크를 보호하는 박막이다. EUV 공정에서 펠리클의 EUV 투과도는 초미세 반도체 수율에 큰 영향을 미친다. 헬로티 서재창 기자 |
"경쟁국에 뒤처지지 않는 지원책 마련하기 위해 노력할 것" 산업통상자원부 장영진 1차관은 7일 국내 최초로 극자외선(EUV)용 포토레지스트 개발 및 양산에 성공한 동진쎄미켐 발안공장을 방문해 반도체 소부장(소재·부품·장비) 기업과 간담회를 진행했다. 간담회 참석 기업은 동진쎄미켐, 에스앤에스텍, 에프에스티, 이솔, 엘오티베큠 등이다. 이들 기업은 EUV 등 반도체 공정이 첨단화됨에 따라 관련 소부장에 대한 수요가 지속적으로 성장할 것으로 전망되는 만큼 첨단 소부장에 대한 기술 개발 지원을 강화해달라고 요청했다. 참여한 기업들은 수요 기업과의 협력 과제 확대, 제품 개발과 성능 평가를 진행할 수 있는 첨단 인프라 구축, 최근 경쟁국의 수출통제가 국내 기업에 미치는 영향을 최소화하기 위한 노력 등을 건의했다. 장영진 1차관은 "국내 반도체 소부장 생태계의 경쟁력이 반도체 초격차 확보와 직결된다는 생각으로 경쟁국에 뒤처지지 않는 지원책을 마련하기 위해 끊임없이 고민하겠다"고 말했다. 장 차관은 "정부는 첨단반도체기술센터 등을 추진하겠다고 발표한 정책과제를 조속히 이행하고 소부장 핵심전략기술 및 으뜸기업 확대, 국가첨단전략산업 및 소부장 특화단지 지정 등 소부장 관
[첨단 헬로티] 임베디드 가상화 및 보안 SW 전문기업 쿤텍이 일본의 임베디드 SW 전문기업인 ‘eSOL(이솔)’의 주요 임베디드 소프트웨어의 안정적 구동을 지원하는 실시간 운영체제 플랫폼인 ‘eT-Kernel(이티-커넬)’을 국내에 공급한다고 밝혔다. eSOL의 ‘eT-Kernel’은 일본 자동차 및 전자 제품 개발 분야에서 80%이상이 채택하고 있는 대표적인 임베디드 장비 개발 플랫폼이다. 이 플랫폼은 자동차 산업 부문 관련 기능 안전 규격인 ‘ISO 26262’를 획득했으며, 이 밖의 다양한 시스템에 대한 국제 안정성 기능 안전 표준을 준수하는 개발 프로세스를 진행할 수 있도록 지원한다. 또한 마이크로컨트롤러에서 단일코어, 이기종 멀티코어, 더 많은 코어의 프로세서까지 확장이 가능하며, 다양한 시스템에서 증명된 성능과 안정성, 글로벌 기준을 준수하는 기능 안전 표준 기반의 임베디드 SW 운영 프로세스 수립이 가능하다. 뿐만 아니라 미들웨어 컴포넌트 및 자바 이클립스(Eclipse) 기반 개발 도구들과도 함께 사용하여 임베디드 시스템을 개발 및 운영할 수 있다. eT-K
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