인하대학교는 최근 김가영 고분자환경융합전공 박사과정 학생, 구예진 박사가 삼성전자 반도체연구소, 서울시립대와 공동 연구를 통해 차세대 고개구수(High NA) 극자외선(EUV) 리소그래피 공정에 적용 가능한 신개념 포토레지스트 소재를 개발했다고 8일 밝혔다. 높은 집적도의 반도체 소자(IC칩)는 판화 작품을 제작하는 것과 유사한, 매우 정교한 공정으로 만들어진다. 전기회로도를 실리콘 웨이퍼 위에 축소·복사해 밑그림을 만들고 웨이퍼로 옮겨 새기는 과정을 포토리소그래피라고 하는데, 이 과정을 십수회 반복하면 하나의 논리소자나 메모리소자를 만들 수 있다. 이 같은 공정의 핵심 역할을 수행하는 화학 소재가 포토레지스트다. 빛에 반응해 회로의 밑그림을 정밀하게 그려주는 얇은 코팅 물질로, 반도체 생산 공정의 정확도와 효율을 좌우한다. 반도체 회로를 더욱 미세하게 구현하기 위해 극자외선(EUV)을 활용한 노광기술이 적용되는 상황에서 최근에는 더욱 넓은 거울(High NA 광학계)이 장착된 초고해상도 노광장비의 도입 준비가 활발히 이뤄지고 있다. 이러한 노광 장비의 정밀도 향상에 맞춰 고성능 포토레지스트 소재를 확보하는 것은 반도체 미세공정 경쟁력을 높이는 데 중요한 의
빅데이터 및 인공지능(AI), 드론, 스마트시티 등 대학별 특성에 맞는 혁신과제 선정해 7월부터 본격적인 인재양성 사업 수행 국토교통부는 경희대와 인하대, 전북대 등 8개 대학을 '공간정보 특성화대학교'로 신규 지정한다고 6일 밝혔다. 공간정보 특성화대학 사업은 정부가 미래 신산업 동력으로 활용될 수 있는 공간정보 분야의 인재양성을 위해 4년제 대학교 8곳을 특성화대학으로 지정해 3년간 총 45억원을 지원하는 내용이다. 지금까지 4년제 대학은 특성화학교로 운영하지 않았다. 사업 수행기관인 공간정보산업진흥원은 지난 3월 사업설명회를 진행하고 신청서를 제출한 16개 대학교에 대해 외부 평가위원의 심사와 지역균형 발전 등을 고려한 권역별 최고 평가순위 대학 우선 선정방식으로 8곳을 최종 선정했다. 수도권에서는 경희대와 서울시립대, 안양대, 인하대 등 4곳이, 충청권에서는 남서울대와 청주대 등 2곳이 각각 선정됐으며 대구·경북·강원권에서는 경북대가, 호남·제주권에서는 전북대가 뽑혔다. 선정된 특성화대학교는 빅데이터 및 인공지능(AI), 드론, 스마트시티 등 대학별 특성에 맞는 혁신과제를 선정해 다음 달부터 본격적인 인재양성 사업을 수행할 예정이다. 정부는 그동안 4