DB하이텍은 2500억 원 규모의 반도체 제조 공정용 클린룸 확장 투자를 진행한다고 11일 공시했다.

 

충북 음성에 있는 상우공장(팹2)의 유휴공간을 활용해 시스템반도체 생산 인프라를 구축하기로 했다. 반도체 업황 회복에 대비, 수요 확대에 따른 생산능력(캐파) 초과 시에도 준비된 클린룸에 즉각 생산장비를 투입해 기회손실을 없애려는 전략이다.

 

이번 클린룸 확장은 다음 달 기본 설계를 시작해 내장 공사, 전기, 공조 등 각종 공사를 거쳐 내년 말께 완료할 계획이다. 2026년부터는 생산장비를 투입해 신규 클린룸에서 양산 가능할 전망이다.

 

 

신규 클린룸이 조성되면 8인치 웨이퍼 기준 월 3만5000장 규모 수요에 적기 대응할 수 있는 인프라를 갖춘다. 이로써 현재의 15만4000장 대비 23% 증가한 19만 장의 생산능력을 확보한다.

 

DB하이텍은 “이번 투자는 작년 말 발표한 경영혁신 계획 투자전략 실행의 일환이며, 앞으로도 경영혁신 계획 이행과 함께 중장기 지속 성장을 위한 노력을 아끼지 않을 것”이라고 밝혔다.

 

헬로티 이창현 기자 |