경계현 사장 "삼성이 하이 NA EUV를 잘 쓰는 협력관계가 중요"

 

이재용 삼성전자 회장이 15일 윤석열 대통령의 네덜란드 국빈 방문 동행을 마치고 15일 오전 서울 김포공항 비즈니스센터를 통해 귀국했다.

 

회색 목도리를 두르고 나온 이 회장은 이번 순방 성과에 대한 취재진의 질문에 "반도체가 거의 90%였다"며 미소를 지었다. 밝은 표정의 이 회장은 함께 귀국한 경계현 디바이스솔루션(DS)부문장(사장)을 격려하듯 경 사장의 등을 여러 번 두드리기도 했다. 

 

 

삼성전자와 ASML은 지난 12일(현지시간) 네덜란드 ASML 본사에서 진행된 한-네덜란드 반도체 협력 협약식에서 업무협약(MOU)을 맺고 7억 유로(약 1조 원)를 투자해 차세대 노광장비 개발을 위한 극자외선(EUV) 공동 연구소 설립을 추진하기로 했다. 

 

ASML은 최첨단 반도체 양산에 필요한 EUV 노광장비를 세계에서 유일하게 생산하는 기업으로, 반도체 업계에서는 '슈퍼 을'로 불린다. 경 사장은 "이제 삼성이 '하이 뉴메리컬어퍼처(NA) EUV'에 대한 기술적인 우선권을 갖게 됐다"며 "장기적으로 D램이나 로직에서 하이 NA EUV를 잘 쓸 수 있는 계기를 만들지 않았나 생각한다"고 말했다.

 

ASML이 조만간 출하할 '하이 NA EUV' 장비는 2나노미터 공정의 핵심 장비다. 경 사장은 "이번 협약은 경기도 동탄에 공동 연구소를 짓고 거기서 하이 NA EUV를 들여와서 ASML 엔지니어와 삼성의 엔지니어들이 같이 기술 개발하는 것이 주목적"이라고 언급했다. 

 

이어 그는 "장비를 빨리 들여온다는 관점보다 공동 연구를 통해 삼성이 하이 NA EUV를 더 잘 쓸 수 있는 협력관계를 맺어가는 게 더 중요하다"고 설명했다. 또한, "EUV가 가장 중요한 툴 중 하나이기에 이를 통해 전체적인 반도체 공급망 입장에서 튼튼한 우군을 확보했다"고 평가했다. 

 

헬로티 서재창 기자 |